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合金靶材
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金屬濺射靶材
基于堅實(shí)的研發(fā)背景和生產(chǎn)能力,我們擁有粉末冶金,真空感應熔煉,懸浮熔煉等多種鑄錠工藝,配合先進(jìn)的熱處理工藝及精密機加工工藝,生產(chǎn)加工各種高純金屬及稀土系列靶材,廣泛應用于電子半導體,太陽(yáng)能光伏,平面顯示,磁記錄,功能性薄膜等領(lǐng)域。
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品名

符號

純度


常規

金屬

靶材

高純鋁靶

Al

5N-6N

高純鎂靶

Mg

3N5

高純銅靶

Cu

4N-6N

高純鐵靶

Fe

3N5-4N

高純鈦靶

Ti

3N-5N

高純銦靶

In

4N-5N

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Ni

3N-5N

高純錫靶

Sn

4N-5N

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Co

3N5

高純鉿靶

Hf

3N 3N5

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Zn

4N-5N

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Zr

2N5 3N


粉末

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Cr

2N5 3N5

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V

3N 3N5

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W

3N5 4N 5N

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Ta

3N5 4N

高純鉬靶

Mo

3N5 4N

高純鈮靶

Nb

3N5 4N

高純錸靶

Re

3N 4N





貴金

屬靶

高純金靶

Au

4N

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Ru

3N5

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Ag

4N

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Ir

3N5

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Pt

4N

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3N5

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4N





其他

靶材

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B

3N

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4N

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C

4N 5N

高純硒靶

Se

4N

高純硅靶

Si

5N 6N

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4N

高純鍺靶

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4N

高純錳靶

Mn

3N

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稀土

金屬

靶材

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Sc

3N 4N

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3N 4N

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Pr

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高純銩靶

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